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什么是PVD​​涂层技术?

来源: 时间:2023-07-22 10:21:11 浏览次数:

物理气相沉积(PVD) 是一种薄膜制备技术,可在真空条件下将材料源(固体或液体)表面物理汽化成气态原子、分子或部分电离成离子。然后,通过低压气体(或等离子体)在基板表面沉积具有特定功能的膜。物理气相沉积的主要方法有真空蒸镀、溅射沉积、电弧等离子镀、离子镀等。PVD薄膜沉积速度快、附着力强、衍射性能好、应用范围广。
物理气相沉积(PVD) 是一种薄膜制备技术,可在真空条件下将材料源(固体或液体)表面物理汽化成气态原子、分子或部分电离成离子。然后,通过低压气体(或等离子体)在基板表面沉积具有特定功能的膜。物理气相沉积的主要方法有真空蒸镀、溅射沉积、电弧等离子镀、离子镀等。PVD薄膜沉积速度快、附着力强、衍射性能好、应用范围广。

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