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来源：时间：2023-07-22 10:22:07 浏览次数：

物理气相沉积技术的基本原理可分为三个工艺步骤： (1)镀层材料的气化：即镀层材料被蒸发、溅射。 (2)镀层原子、分子或离子的迁移：原子、分子或离子碰撞后发生多种反应。 (3)电镀原子、分子或离子沉积在基板上。

物理气相沉积技术的基本原理可分为三个工艺步骤：

(1)镀层材料的气化：即镀层材料被蒸发、溅射。

(2)镀层原子、分子或离子的迁移：原子、分子或离子碰撞后发生多种反应。

(3)电镀原子、分子或离子沉积在基板上。

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